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YCL-50-A磁控与离子束联合系统
◆设备用途
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的制备。可广泛应用于半导体、微电子及新材料领域。
◆设备组成
系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
◆技术指标
极限真空度：≤6.67×10-5 Pa (经烘烤除气后)；
系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S；停机12小时≤5Pa.
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6.67×10-4Pa；
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成。
